設(shè)備描述

活性屏離子氮化爐是我公司研制的新型離子滲氮爐。活性屏技術(shù)解決了傳統(tǒng)離子滲氮技術(shù)一些難以克服的技術(shù)問題，如：打弧、工件測(cè)溫控溫難、爐內(nèi)工件溫度均勻性差、大小工件不能混裝、空心陰極效應(yīng)、操作復(fù)雜等一系列問題。

本設(shè)備采用了全逆變式大功率脈沖電源、保溫式全不銹鋼爐體結(jié)構(gòu)、爐內(nèi)雙測(cè)溫控溫系統(tǒng)、爐內(nèi)壓力雙閉環(huán)自動(dòng)控制系統(tǒng)、爐體液壓自動(dòng)升降移動(dòng)系統(tǒng)、快速充氮冷卻系統(tǒng)以及工藝參數(shù)自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。主要控制系統(tǒng)及執(zhí)行元器件采用法國、德國、美國品牌，可實(shí)現(xiàn)手動(dòng)及全自動(dòng)操作。

活性屏離子滲氮爐主要適用于小零件氮化、精密模具、高精配件等高端零件的離子氮化、離子氮碳共滲。

適用工藝：離子氮化、離子軟氮化

可加工零件尺寸：Φ1000×1500mm/Φ1200×2000mm

最大裝爐量：1000kg/2000kg

溫度均勻性：±5℃

設(shè)備規(guī)格列表：

注：以上參數(shù)可根據(jù)顧客要求調(diào)整